電鍍用純水設備特點

　　有些金屬表面需要涂一層防腐劑同時起到抗氧化的作用，為了增加鍍件表面光潔度、亮度、附著力，需要用純水來清洗。電鍍液的配制需要用電導率在15uS/cm以下的純水。另外在鍍件漂洗時也需用電導率在10uS/cm以下電鍍純水來清洗。

 

　　電鍍用純水設備包括電鍍前電鍍液配制用純水系統(tǒng)、電鍍漂洗廢水中稀有金屬回收漂洗水循環(huán)利用電鍍廢水處理零排放系統(tǒng)。通常系統(tǒng)由預處理，超濾，反滲透(RO)，離子交換，EDI設備等組成，以滿足電鍍行業(yè)對各種水質(zhì)的要求。

 

　　電鍍用純水設備工藝流程

　　電鍍用純水設備的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用兩級反滲透方式，其流程如下：

　　自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→一級反滲透→PH調(diào)節(jié)→混合器→二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→微孔過濾器

→用水點

　　2、采用高效反滲透加EDI方式，其流程如下：

　　自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→PH值調(diào)節(jié)系統(tǒng)→高效混合器→精密過濾器→高效反滲透→中間水箱→EDI水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點

　　3、采用離子交換方式，其流程如下：

　　自來水→電動閥→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟化水器→中間水箱→低壓泵→精密過濾器→陽樹脂床→陰樹脂床→陰陽樹脂混合床→微孔過濾器→用水點

 

　　電鍍用純水設備采用進口反滲透技術與離子交換技術相結(jié)合，制取高質(zhì)量的電鍍用純水，廣泛應用于鍍金、鍍銀、鍍錫、鍍鎳、鍍鉻、塑料鍍等工藝。

 

 

 

　　電鍍用純水設備應用領域

　　1、在電溶解器上生產(chǎn)鋁箔、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。

　　2、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水發(fā)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)。

　　3、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管徑清洗用純水。

　　4、液晶顯示屏的生產(chǎn)，屏面需用純水清洗，晶體管生產(chǎn)中需用純水清洗硅片。

　　5、少量用于藥業(yè)配置集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。

 

    電鍍用純水設備特點

　　潔峰電鍍純水設備與其它工藝，如全離子交換法，電滲析離子交換法，相比較具有如下優(yōu)點：

　　①占地小，運行性能穩(wěn)定，出水水質(zhì)穩(wěn)定;

　?、谶\行成本低：額定功率小，原水的利用率高，酸堿再生費用低;

　　③環(huán)保：濃水可直接排放入下水道。

　?、茈姎饪刂萍霸O備運行技術簡易，大大減輕了員工的作業(yè)難度。